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仪器设备
Instrument and equipment
光刻机 设备名称：光刻机 设备厂商：美国ABM公司 工作原理：将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移 到涂有光刻胶的晶片上。 用途：光刻胶的图形化 …
HT-MOCVD 我院采用的HT-MOCVD设备是德国爱思强（Aixtron）公司生产的CCS 3×2" FT MOCVD系统，是国内第一台实验型超高温MOCVD系统，托盘表面…
CRIUS MOCVD CRIUS MOCVD(金属有机化学气相沉积)，是利用金属有机化合物进行金属输运的一种气相外延生长技术，以有机化合物和氢化物等作为晶体生长源材料，以热分解反应方式在衬底上进行气相外…
X射线光电子能谱仪/紫外光电子能谱仪（XPS/UPS）
半导体参数测试仪、探针台 设备型号：B1505A、TS2000-HP 设备厂商：Keysight、MPI 设备介绍： B1505A 是一个功能强大的测量和表征工具，能评估所有类…
合金炉 设备名称：合金炉 设备厂商：金立盾 工作原理：将材料快速加热到一定温度并维持长时间高温 用途：长时间的合金工艺，如ITO合金工艺以及p-GaN激…
电阻蒸发台 设备名称：电阻蒸发台 设备厂商：北京泰科诺 工作原理：将蒸发材料加热到蒸发或升华温度，蒸发出来的原子沉积在基片表面，形成致密的薄膜。 用途：蒸发…
磁控溅射台 设备名称：磁控溅射台 设备厂商：美国科特 工作原理：高能粒子撞击具有高纯度的靶材固定平板，通过物理过程轰击出原子，这些被撞击出的原子穿过真空，最后淀积在样品…
金属电子束蒸发台 设备名称：金属电子束蒸发台 设备厂商：美国德仪 用途：蒸发Ti，Al，Ni，Cr，Pt，Au，Ag、Mo等金属 技术指标： …
金属电子束蒸发台 设备名称：金属电子束蒸发台 设备厂商：台湾聚昌 工作原理：电子束斑聚焦到蒸发材料表面，使局部达到蒸发或升华温度，蒸发出来的原子沉积在基片表面，形成致密的金属薄膜。…
ITO电子束蒸发台 设备名称：ITO电子束蒸发台 设备厂商：台湾聚昌 工作原理：电子束斑聚焦到介质材料表面，使局部达到蒸发或升华温度，蒸发出来的原子沉积在基片表面，同时增加离子…
XRD 设备名称：高分辨X射线衍射仪（XRD） 设备型号：Smartlab9kW 设备厂商：日本理学RIGAKU 设备介绍： 基本原理：X射线与晶体相遇时，若满足布拉格方程，…
